Plasma remoto

Un plasma remoto (también llamado plasma aguas abajo o plasma de descarga posterior ) es un método de procesamiento de plasma en el que la interacción entre el plasma y el material ocurre en una ubicación alejada del plasma en la descarga posterior del plasma . ^{[ 1 ]}^{[ 2 ]}

Véase también

Referencias

↑ Tommi Kääriäinen; David Cameron; Marja-Leena Kääriäinen; Arthur Sherman (17 de mayo de 2013). Deposición de capas atómicas: principios, características y aplicaciones de nanotecnología . Wiley. págs.21– . ISBN 978-1-118-74742-1.
↑ Alexander Fridman (5 de mayo de 2008). Química del plasma . Cambridge University Press . págs. 532–. ISBN 978-1-139-47173-2.

[KääriäinenCameron2013-1] Tommi Kääriäinen; David Cameron; Marja-Leena Kääriäinen; Arthur Sherman (17 de mayo de 2013). Deposición de capas atómicas: principios, características y aplicaciones de nanotecnología . Wiley. págs.21– . ISBN 978-1-118-74742-1.

[Fridman2008-2] Alexander Fridman (5 de mayo de 2008). Química del plasma . Cambridge University Press . págs. 532–. ISBN 978-1-139-47173-2.

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