proceso de 800 nm

El proceso de 800 nm (proceso de 800 nanómetros ) es un nivel de tecnología de proceso de semiconductores que fue alcanzado en el período 1987-1990 por empresas como Intel , ATI Technologies e IBM . ^{[ 1 ]}

El proceso de 800 nm se refiere al tamaño mínimo que se podía producir de forma fiable. Los transistores y otros elementos de circuito más pequeños en un chip fabricados con este proceso tenían un ancho de alrededor de 800 nanómetros.

• La CPU i486DX de 50 MHz lanzada en 1991 se fabricó utilizando este proceso. ^{[ 2 ]}
• Tanto la CPU Intel486 DX2 de 25/50 como la de 33/66 MHz utilizan este proceso. ^{[ 3 ]}
• Versión temprana de Intel486 SX2 que utiliza este proceso. ^{[ 4 ]}
• Intel utiliza esta tecnología de proceso ETOX-III (EPROM Tunnel Oxide) para estos módulos de memoria Flash . ^{[ 5 ] [ 6 ]}
• La versión de 3,3 voltios y 25 MHz del Intel486 SL utiliza este proceso CHMOS V de tres capas . ^{[ 7 ]}
• microSPARC I se lanzó en 1992.
• Los primeros procesadores Intel P5 Pentium de 60  MHz y 66  MHz se lanzaron en 1993 utilizando el proceso de tecnología BiCMOS . ^{[ 8 ]}